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F3-sX薄膜厚度測量儀利用光譜反射原理,可以測試眾多半導(dǎo)體及電解層的厚度,可測厚度達(dá)3毫米。此類厚膜,相較于較薄膜層表面較粗糙且不均勻,F(xiàn)3-sX系列配置10微米的測試光斑直徑因而可以快速容易的測量其他膜厚測試儀器不能測量的材料膜層。而且能在幾分之一秒內(nèi)完成。
F54-XY-200薄膜厚度測量儀:借助F54-XY-200光譜反射系統(tǒng),可以輕松地測量尺寸達(dá)200 x 200mm樣品的薄膜厚度電動(dòng)XY工作臺自動(dòng)移動(dòng)到選定的測量點(diǎn)并提供厚度測量,達(dá)到每秒兩點(diǎn)。您可以從數(shù)十種預(yù)定義的極性,矩形或線性測量坐標(biāo)圖案中選擇,也可以創(chuàng)建自己編輯的測量點(diǎn)數(shù)量。
HS華山系列被動(dòng)式減震臺采用:半膜片式空氣彈簧、整體焊接支架、鐵磁不銹鋼臺面(同OTP臺面)的氣浮隔振光學(xué)平臺,整體高度800mm,分為氣浮式支架和臺面兩部分。
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